关闭导航

C# WPF .NET8.0  AI规则
李枭龙 2025-9-19 3 0

请确保整个对话过程中使用中文进行交流。 在开发过程中,所有代码注释需采用中文编写。 开发环境限定为 C# WPF .NET8.0,采用 MVVM 架构模式,且禁止使用 Windows.Forms 库。

三菱 PLC ST 语言程序 AI规则
李枭龙 2025-9-19 5 0

当前项目需开发适用于三菱PLC的ST语言程序,该程序运行环境不支持枚举数据类型。 需明确的是,由于目标环境限制,在ST语言中枚举数据类型无法直接使用,因此需采用替代方案实现同等功能。 程序开发过程中,

WebSocket 通讯深度解析:从原理到 PHP/C# 实现
李枭龙 2025-9-18 14 0

作为一种在单个 TCP 连接上提供全双工通信的协议,WebSocket 彻底改变了传统 HTTP 协议的请求-响应模式,成为实时 Web 应用的核心技术。对于 PHP 和 C# 开发者而言,掌握 We

OPC UA (Open Platform Communications Unified Architecture) 深度解析
李枭龙 2025-9-18 3 0

作为工业自动化领域的核心通信标准,OPC UA(开放平台通信统一架构)已成为跨厂商、跨平台、安全可靠的数据交换基准。对于软件开发者而言,理解其技术细节对于构建工业级数据集成系统至关重要。本文将从技术架

工业自动化与物联网通信协议全面对比:从 OPC UA 到 WebSocket
李枭龙 2025-9-18 4 0

一、引言:工业通信协议的演进与挑战 在当今智能制造和工业物联网 (IIoT) 蓬勃发展的时代,设备间的高效通信成为实现工业 4.0 的关键基础。随着工业环境复杂度增加和数字化转型需求提升,各种通信协议

SCADA 系统:数据采集与监视控制的核心
李枭龙 2025-9-18 18 0

SCADA(Supervisory Control and Data Acquisition,数据采集与监视控制系统)是一种用于监控和控制关键基础设施与工业过程的自动化系统,广泛应用于能源、交通、水利

晶圆清洗行业化学物质与工艺流程技术全面解析
李枭龙 2025-9-17 7 0

一、晶圆清洗概述与重要性 在半导体制造过程中,晶圆清洗是确保芯片良率和性能的关键工艺环节。随着半导体制程不断向纳米级发展,晶圆表面的污染物控制变得越来越严格,清洗技术的重要性日益凸显。晶圆清洗的主要目

芯片清洗行业中 CDA
李枭龙 2025-9-17 2 0

在芯片清洗行业中,CDA 是 Compressed Dry Air(压缩干燥空气) 或 Clean Dry Air(洁净干燥空气) 的缩写,指经过多级处理后达到无油、无尘、无水标准的高纯度压缩空气。其

芯片清洗行业中 N2  的工艺
李枭龙 2025-9-17 2 0

在芯片清洗行业中,N₂(氮气) 是核心辅助气体,凭借其化学惰性(不与晶圆/药液反应)、高纯度(可控制杂质)、无残留(不引入污染物) 的特性,贯穿清洗全流程,主要承担干燥、吹扫、氛围保护三大核心功能,直

芯片清洗行业中 DIW 去离子水
李枭龙 2025-9-17 2 0

在芯片清洗行业中,DIW 是 Deionized Water(去离子水)的缩写,是一种通过多重净化技术去除水中导电离子(如Na⁺、Cl⁻)、有机物及微生物的高纯度水。其电阻率通常达到 18.2 MΩ·

    1 2
淮南枭龙网络科技科技 0554H.COM 皖ICP备18012497号-1
sitemap 今日站长很懒,一篇文章都没更新。
我的足迹清空